系列設備主要是（集）純離子鍍膜技術（PIC）、 高能離子束清洗技術（IONBEAM）和磁控濺射技術（SPUTTER）三種技術融合一體，可適應廣泛鍍膜靶材，無論金屬還是介質、化合材料都可以利用濺射工藝進行鍍膜及成膜，使膜層具有高致密度、超硬、耐磨損、耐腐蝕等特點?？慑冎芓iN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、超級類金剛石膜（TAC、DLC）、裝飾膜等非金屬及其化合物的膜層和復合膜層?？删幊绦蚩刂破鳎≒LC）+觸摸屏（HMI）組合電氣控制系統，全自動控制。
1、傳動裝置為水冷式：設計新穎、結構緊湊、系列間通用、互換性強；水冷式機座，散熱效果佳；滾動軸承及傳動齒輪可加潤滑油運行，使用壽命增長3-5倍；
2、旋轉裝置為行星旋轉機構、據鍍膜工藝不同，設計為：公轉式、公/自轉式；
3、采用氣動門鉸，自動鎖門，減少操作程序，增強真空門整體的密閉性及減少對橡膠密封圈的破壞性；
4、真空容器設計為新型結構，用戶可據自己的需求，升級為多功能鍍膜設備；
5、多弧離子部份采用先進鍍膜工藝技術，即可鍍制裝飾膜，也能鍍制功能膜，數道工藝，一次完成，極為先進科學；
6、智能控制：PLC智能控制+HMI全彩人機觸控界面，實現全自動控制；
7、報警及保護：異常情況進行報警，并執行相應保護措施。
