PIC(Pure Ion Coating)特征是：在真空條件下點火碳頭敲擊至陽極內的陰極靶（碳靶）上，靶面被瞬間激發產生電場，在放電空間中，工藝氣體的氣體原子與電子發生碰撞使氣體離化產生等離子體，并受到基片前負電位電場加速，轟擊沉積在基片表面。純離子鍍膜形成的膜基結合力好、膜層的繞鍍性好、膜層組織可控能數多、膜層粒子總體能量高，容易進行反應沉積，可以在較低溫度下獲得化合物膜層。
