PIC離子鍍膜源
PIC(Pure Ion Coating)特征是：在真空條件下點火碳頭敲擊至陽極內的陰極靶（碳靶）上，靶面被瞬間激發產生電場，在放電空間...
非平衡磁控濺射鍍膜源
其特征是：通過對磁場的設計將靶面的等離子體延伸到靶面前200-400mm的范圍，等離子體以一定能量轟擊基板，輔助薄膜的沉積...
IONBEAM離子束清洗源
IONBEAM離子束清洗源特征是：結構簡單，束流密度大，離子能量可控，在大面積改性處理方面具有獨特的優勢，離子束清洗源是在...
